SiO2纳米干凝胶的合成和表征SiO2纳米干凝胶的合成和表征 l 类 别： 矿产开发 l 作 者： 张裕卿 王林双 姜云鹏 王榕树 l 关键词： SiO2纳米干凝胶,比表面积,吸附容量,锆 l 【内容】 l 在动力堆乏燃料后处理流程的高放废液中含有大量的锆(浓度约0.01mmol/L),在用磷酸三丁酯为萃取剂的PUREX流程中,锆很容易与磷酸三丁酯的降解产物形成界面污物,使萃取困难,以至不可以进行正常的操作。因此,在后处理流程的首端有必要除去锆、硅胶对裂片产物中的锆具有选择性很高的吸附性能,很多科学家对此进行了大量研究。随着现代科...
征 l 类 别： 矿产开发 l 作 者： 张裕卿 王林双 姜云鹏 王榕树 l 关键词： SiO2纳米干凝胶,比表面积,吸附容量,锆 l 【内容】 l 在动力堆乏燃料后处理
的高放废液中含有大量的锆(浓度约0.01mmol/L),在用磷酸三丁酯为萃取剂的PUREX流程中,锆很容易与磷酸三丁酯的降解产物形成界面污物,使萃取困难,以至不能做正常的操作。因此,在后处理流程的首端有必要除去锆、硅胶对裂片产物中的锆具有选择性很高的吸附性能,很多科学家对此进行了大量研究。随着现代科学技术的发展,通过“分子设计”和“化学剪裁”等手段制备和组装出各种纳米材料慢慢的变成了现实。90年代以来,利用表面活性剂在溶液中形成的分子有序组合体的各种空间构像作为预组织模板,成功地合成出新一类结构可控的介孔材料。近年来,以聚乙二醇为改性剂,正硅酸乙酯为前驱体合成出了SiO2纳米干凝胶,但是这种
存在着所用原料比较昂贵,反应周期长等缺。本文通过非离子表面活性剂为模板剂,以盐酸和水玻璃为原料,制备时控制一次粒子的生长和堆积,以期制备出高比表面积、高吸附活性的SiO2纳米干凝胶,成为乏燃料后处理流程中首端除锆的新型材料。 1实验部分 1.1 主要仪器 DT-30B型热
仪,XD-3AX型射线DXFT-IR型红外光谱仪,均为日本岛津制作所产品;Chembet-000型BET吸附仪,美国Quanpachrome公司产品;721分光光度计,上海分析仪器厂生产。 1.2 SiO2纳米干凝胶的制备 将适量水玻璃(模数为3.3)放入到温度为30℃的反应釜中,用去离子水稀释到一定浓度,加入一定量的非离子表面活性剂(SA-20或O-9)。溶解后稳定10min,然后在强烈搅拌下滴加一定浓度的盐酸至pH=4.5(以酸度计指示),静置1d。将生成凝胶用蒸馏水洗涤,在20℃下老化一段时间,然后在80℃烘箱中烘干并在一定温度下煅烧1h。最后制备成SiO2纳米干凝胶。实验采用五因素四水平正交试验:水玻璃质量浓度为10,25,40,60g/L;盐酸浓度为1,2,3,5mol/L;表面活性剂质量浓度为20,50,70,90g/L;老化时间为1,3,5,10h;煅烧温度为400,500,600,800℃。 1.3 对锆的静态吸附 将SiO2纳米干凝胶研磨成粒径为0.15~0.25mm的颗粒后,用95%盐酸浸泡活化48h。离心甩干后称取0.1g放入锥形瓶中,并加入20mL模拟高放废液(介质为3mol/LHNO3,废液中Zr,Cr,Fe,Ni,Mo,Cd,Cs,Sr,Ba,Na,Nd的质量浓度分别为0.744,0.117,1.025,0.260,0.209,0.483,0 .371,0.119,0.392,1.471,1.839g/L)。然后放在康式振荡器上振荡吸附,定时取样并测定溶液中锆含量,直至溶液中锆离子浓度不变,平衡时间为48h。样品溶液中锆及其它元素的含量用分光光度法测定。 2结果和讨论 应用正交试验制备的纳米硅胶对锆的静态吸附结果列入表1。从表1看出,在水玻璃质量浓度为40g/L,盐酸浓度为5mol/L,表面活性剂质量浓度为50g/L(SA -20),陈化时间为1h,煅烧温度为600℃时制备的SiO2纳米干凝胶对锆的静态吸附容量最大,为0.344mmol/g。 2.1 水玻璃浓度的影响 水玻璃浓度对纳米硅胶的结构影响很大。水玻璃浓度高时,溶胶会形成大量较小的胶粒,经干燥后形成凝胶时,小球形粒子的堆积紧密,生成的样品孔容小,比表面积大。在样品的表面存在大量具有吸附活性的羟基,从而使纳米硅胶对锆有较大的吸附容量。当水玻璃浓度较小时,则与上面的情况相反。但水玻璃浓度太大时,会很快形成大量很小的二氧化硅溶胶粒子,它们很容易堆积在一起,并且紧密结合,造成二氧化硅干凝胶的表面积减小,比表面积下降。因此,水玻璃质量浓度为40g/L比较适宜。 2.2 盐酸浓度的影响盐 酸与水玻璃发生反应时,盐酸浓度越高反应越快,纳米硅胶的凝胶速度也越快,形成的一次胶球粒子就越小。当较小的一次粒子堆积时,形成的纳米硅胶孔容小、比表面积大,纳米硅胶的活性就强,对锆的吸附容量就高。但是当盐酸浓度太高时,也会形成大量较小的二氧化硅溶胶粒子,它们很容易堆积在一起,并且紧密结合,造成样品的比表面积较小,吸附性能降低。本实验中选用盐酸浓度为5mol/L。 2.3 表面活性剂的影响 表面活性剂对溶胶粒子的交联起着导向作用,促使溶胶粒子形成有序的网络结构,以及比较规整的孔穴和孔道、表面活性剂对纳米硅胶制备过程中孔结构的形成和比表面积的大小起着重要的作用,而且不同的表面活性剂所起的作用也不同。由实验结果看出,在上述最佳工艺条件下选用SA-20和O-9两种表面活性剂制备的纳米硅胶对锆的静态吸附容量分别为0 .344mmol/g和0.128mmol/g。因此,SA-20表面活性剂比O-9更适合制备高吸附活性纳米硅胶的预组织模板剂、非离子表面活性剂是由亲水的聚环氧乙烷和憎水的脂肪醇链组成,聚环氧乙烷链在无水状况下呈锯齿状,溶于水后呈扭曲形状、水玻璃和盐酸发生反应时,非离子表面活性剂包覆了二氧化硅溶胶的一次粒子,限制了一次粒子的生长;另一方面也使一次粒子堆积时接触面减小,从而制备出比表面积较高的硅胶。随着表面活性剂的亲水链的增长,其扭曲程度就越强,加剧了对一次粒子的包覆作用,限制了一次粒子的生长。在结构上看,SA-20型表面活性剂的亲水链长,扭曲程度强,而O-9型的亲水链短,扭曲程度弱。所以SA-20对硅溶胶的一次粒子的包覆较强,在硅胶的制备中起到了很好的作用。当表面活性剂的浓度较低时,不能将纳米硅胶的一次粒子完全包住,因此不能有效地阻止一次粒子的生长,堆积时也比较紧密,造成纳米硅胶的比表面小,对锆的吸附量低。而当表面活性剂的浓度较大时,一次粒子周围包覆的表面活性剂太多,促进了一次粒子堆积和再连接,形成了比较大的簇团结构,同时在煅烧时表面活性剂的去除也困难,制得的纳米硅胶比表面较低,吸附量小。因此表面活性剂的质量浓度为50g/L较好。 2. 4 老化时间的影响 老化时间的不同对纳米硅胶的孔结构也会产生一定的影响。这是因为老化过程中胶球的粒子会发生紧密的堆积,粒子之间的介质被挤出,使粒子之间的联接加强。在相同温度下,老化时间越长,纳米硅胶的孔径越大,比表面越小。相反老化时间太短不能形成二氧化硅凝胶。 2.5 煅烧温度的影响 纳米硅胶的煅烧活化对保持纳米硅胶的活性至关重要。干燥后的纳米硅胶含有一些水分和其它的杂质,还包裹着大量的表面活性剂,煅烧可以将它们以水蒸气和二氧化碳的形式除去,使纳米硅胶的孔道全部形成。纳米硅胶的差热 热重实验的DTA曲线的DTA曲线℃时的小吸收峰是纳米硅胶的吸附水蒸发引起的,228℃和355℃的两个放热峰为除去不同大小孔内的表面活性剂引起的。由TGA曲线看出,纳米硅胶煅烧时在110℃左右重量就开始减轻,
表面活性剂开始燃烧,到190℃时开始大量燃烧,纳米硅胶质量急剧下降,到600℃时质量基本不变,说明表面活性剂已得到充分燃烧。由正交试验看出,在600℃时煅烧的样品对锆的吸附量均较大。因此,较合适的煅烧温度为600℃。若煅烧的温度低,则不能很好地除去表面活性剂和杂质;若煅烧的温度偏高,就会使纳米硅胶表面的羟基以脱水的形式失去,从而使纳米硅胶丧失吸附活性。 2.6 纳米硅胶的表征 2.6.1 纳米硅胶的比表面积和孔径分布 由吸氮法测得吸附容量为0.344mmol/g的纳米硅胶样品的比表面积为998m2/g,孔径分布曲线看出,该样品的孔径大部分分布在2.5nm左右。由此说明,该纳米硅胶具有较小孔径和较大的比表面积,从而使其表面拥有大量的活性羟基,因此对锆具有较大的吸附容量。 2.6.2 X- ray射线衍射分析 该纳米硅胶样品的X- ray射线看出,该纳米硅胶在结构上大部分属于无定形二氧化硅。随着温度上升,晶化结构趋势加强(如图中的尖峰部分),这说明硅胶在600℃煅烧时已有部分晶化趋势出现。这可能是无定形物熔结后发生重排的结果。同时在600℃以上的温度煅烧时,表面羟基以水的形式脱去,使样品失去活性。因此,纳米硅胶的煅烧温度不允许超出600℃。 2.6.3 IR红外光谱分析 在不一样的温度下煅烧的纳米硅胶红外光谱图示于图4。由图4看出,3750cm-1处的尖峰是纳米硅胶表面的自由—OH吸收峰,3500cm-1处的宽峰是纳米硅胶表面的缔合—OH吸收峰。随着温度的上升,缔合—OH吸收峰逐渐降低,说明它容易脱水除掉。而自由—OH吸收峰就没有变化,说明较为稳定。纳米硅胶表面起吸附作用的是自由—OH,在600℃煅烧对它的吸附性能没有过大的影响。 2.6.4 纳米硅胶的TEM分析 从纳米硅胶的透射电镜照片(放大14万倍)能够准确的看出,硅胶粒子是多孔状的三维网状结构,这保证硅胶具有较高的比表面积。 3结论 (1)通过正交试验制备具有高吸附活性的纳米硅胶的最佳工艺条件为:水玻璃质量浓度40g/L,盐酸浓度5mol/L,表面活性剂质量浓度50g/L(SA-20),陈化时间1h,煅烧温度600℃。 (2)该硅胶的最大比表面积为998m2/g。在3mol/LHNO3体系中,锆的最大静态吸附容量为0.344mmol/g(硅胶粒径为0.15~0.25mm)。 (3)在600℃煅烧时,硅胶主要由无定形二氧化硅构成,但有晶化趋势出现。
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